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電子光學超純水解決方案

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解決方案

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電子光學超純水解決方案
來源: 時間:2018/6/5 查看:592次
文章摘要:電子光學超純水解決方案

電子光學行業生產用水,如半導體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管塗敷配液用水、液晶顯示器屏麵清洗用水、矽片清洗用水、光學鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模集成電路等生產用水需求。既將水中的導電介質幾乎完全去除,水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水稱為超純水,我國電子工業部將電子工業用水劃分為四級用水標準(18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM),科利達環保采用采用當今先進的雙級反滲透純化水處理技術+EDI模塊化設計,原水通過一、二級反滲透係統去除各種鹽份及雜質,再經過EDI係統對反滲透產水高度淨化,使水質提高。此電子行業EDI超純水設備不需要用酸堿進行再生便可連續製取超純水,係統工藝先進、水質穩定、自動化程度高、操作簡便、占地少、運行費用低、綠色環保、維護方便,處理後可生產出水電阻率可達到18.2兆歐及以上的超純水。

一、 分類標記:
I級電子級水標記為:EW-I;
II級電子級水標記為:EW-Ⅱ;
III級電子級水標記為:EW-Ⅲ;
Ⅳ級電子級水標記為:EW-Ⅳ;

二、 級別指標:


級別指標


EW-I


EW-Ⅱ


EW-Ⅲ


EW-Ⅳ

電阻率

MΩ﹒cm(25℃)

18以上

(95N時間)

不低於17

15

(95N時間)

不低於13


12.0



0.5


全矽,最大值,µg/L

2

10

50

1000

>1µm微粒數,最大值,個/mL

0.01

5

10

500

細菌個數,最大值,個/mL

0.01

0.1

10

100

銅,最大值,µg /L

0.2

1

2

500

鋅,最大值,ug/L

0.2

1

5

500

鎳,最大值.µg/L

0.1

1

2

500

鈉.最大值,µg /L

0.5

2

5

1000

鉀,最大值.ug/L

0.5

2

5

500

氯,最大值.ug/L

l

l

10

1000

硝酸根,最大值,ug/L

1

1

5

500

磷酸根,最大值.ug/L

1

1

5

500

硫酸根,最大值, ug/L

1

1

5

500

總有機碳,最大值,ug/L

20

100

200

1000


三、 常用工藝:
(1)預處理+一級反滲透+二級反滲透
(2)預處理+一級反滲透+EDI設備
(3)預處理+一級反滲透+二級反滲透+EDI設備+核能混床

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